Depósito físico de vapor

La deposición física de vapor es un término que cubre una variedad de técnicas de deposición de película delgada, muchas de las cuales requieren alimentación de DC de alto voltaje. Dos procesos muy comunes de PVD son la pulverización catódica y la evaporación por haz de electrones (evaporación por haz electrónico). Spellman ofrece fuentes de alimentación de propósito general y específicas de aplicación para ambas técnicas.

La Serie EVA de Spellman es una opción ideal para sistemas de evaporación de haz electrónico. Diseñados utilizando topologías de circuitos de estado sólido eficientes y robustas, estos fuentes son altamente tolerantes al arco y ofrecen configuraciones de gestión de arco ajustables por el usuario que se pueden optimizar para diferentes procesos y condiciones de deposición, para ayudar a mantener recubrimientos consistentes y libres de defectos. Las fuentes de alimentación de la serie EVA están disponibles en diferentes configuraciones, incluidas las fuentes de filamento integradas y múltiples salidas, lo que proporciona una economía y flexibilidad inigualables.

Al igual que con las fuentes de alimentación de evaporación de haz electrónico, la respuesta al arco es importante para procesos de pulverización catódica de plasma estables y consistentes. Muchas de nuestras fuentes modulares y de montaje en rack estándar se pueden optimizar para su uso en pulverización catódica, por ejemplo limitando la energía almacenada y adaptando los tiempos de recuperación del arco. Debido a la amplia gama de requisitos para las fuentes de alimentación de pulverización catódica por plasma, le recomendamos que se ponga en contacto con nuestros expertos en aplicaciones para analizar sus especificaciones únicas.