Spellmanの半導体‐イオン注入およびリソグラフィ

記憶装置用電源装置
記憶装置を容量の増加に応じて製造し、半導体を線幅の減少に応じて製造するには、高圧電源の制御と効率をさらに高める必要があります。Spellmanは、イオン・ビーム・エッチング、電子ビーム蒸着、イオン注入など数々の真空処理に見られる厳格なアーク条件で作動する、最大400kVの電源装置を設計します。さらに、弊社電源装置は、電子ビーム・リソグラフィで要求される低リップルと安定性の高い出力を生み出すために必要な、精密回路構成で製造されます。Spellmanは経験と最先端の設計を活かし、新たに登場するアプリケーションがもたらす課題の革新的解決策を必要とする産業から、好んで選んでいただけるようになりました。弊社は、直流高圧電源を必要とする最先端技術産業における、新規開発への支援提供に献身します。

（写真提供：Veeco Instruments Inc.）